光学滤光片与镀膜
什么是减反射（Anti-reflective)
减反射（AR，anti-reflective），就是减少反射光，反光少了，说明透过的光多了，所以减反射又叫增透。
下面的图中，做过减反射处理的（右），只反射了2%的光，也就是说它的透过率是98%。
增透膜（Anti-reflective coating，AR）是一种表面光学镀层，通过减少光的反射而增加透过率。在复杂的光学系统中，可以通过减少系统中的散射光来提高对比度，例如望远镜，这对天文学十分重要。增透膜能减少暗处双筒望远镜的闪光。
很多涂层都包括折射率不同的透明的薄膜结构thin film structures with alternating layers of contrasting. 薄膜的厚度决定了其作用的反射光波长。当光线在增透膜上产生二次反射时，会和原反射光发生干涉，从而减弱反射光。而根据能量守恒，光的能量不变。当反射光减少时，透射光便增多。这就是增透膜的原理。选择增透膜时需确定波长，如红外线，可见光以及紫外线。
没有镀膜的眼镜镜片（上方）比镀上增透模的眼镜镜片反射更多光波。特别注意到镀膜的眼镜镜片的反射带有些许颜色。
滤光片
滤光片产品主要按光谱波段、光谱特性、膜层材料、应用特点等方式分类。
光谱波段：紫外滤光片、可见滤光片、红外滤光片；
光谱特性：带通滤光片、截止滤光片、分光滤光片、中性密度滤光片、反射滤光片；
膜层材料：软膜滤光片、硬膜滤光片；
硬膜滤光片不仅指薄膜硬度方面，更重要的是它的激光损伤阈值，所以它广泛应用于激光系统当中，面软膜滤光片则主要用于生化分析仪当中。
带通型： 选定波段的光通过，通带以外的光截止。其光学指标主要是中心波长（CWL），半带宽（FWHM)。分为窄带和宽带。比如窄带808滤光片NBF-808。
短波通型(又叫低波通)：短于选定波长的光通过，长于该波长的光截止。 比如红外截止滤光片，IBG-650。
长波通型(又叫高波通)：长于选定波长的光通过，短于该波长的光截止 比如红外透过滤光片，IPG-800。
滤光片镀膜
蒸发沉积
在蒸发沉积时，真空室中的源材料受到加热或电子束轰击而蒸发。蒸气冷凝在光学表面上。在蒸发期间，通过控制加热，真空压力，基板定位和旋转可以制造出具有特定厚度的均匀光学镀膜。
蒸发具有相对温和的性质，会使镀膜变得松散或多孔。 这种松散的镀膜具有吸水性，改变了膜层的有效折射率，将导致性能降低。通过离子束辅助沉积技术可以增强蒸发镀膜，在该过程中，离子束会对准基片表面。这增加了源材料相对光学表面的粘附性，产生更多应力，使得镀膜更致密，更耐久。
离子束溅射（IBS）
在离子束溅射（IBS）时，高能电场可以加速离子束。 这种加速度使得离子具有显着的动能。在与源材料撞击时，离子束会将靶材的原子“溅射”出来。
这些被溅射出来的靶材离子（原子受电离区影响变为离子）也具有动能，会在与光学表面接触时产生致密的膜。 IBS是一种的，重复性强的技术。
等离子体溅射
等离子体溅射是一系列技术的总称，例如等离子体溅射和磁控管溅射。不管是哪种技术，都包括等离子体的产生。等离子体中的离子经加速射入源材料中，撞击松散的能量源离子，然后溅射到目标光学元件上。
虽然不同类型的等离子体溅射具有其独特的性质和优缺点，不过可以将这些技术集合在一起，因为具有共同的工作原理，差异，相比这种镀膜技术与本文中涉及的其它镀膜技术之间的差异小得多。
原子层沉积
与蒸发沉积不同，用于原子层沉积（ALD）的源材料不需要从固体中蒸发出来，而是直接以气体的形式存在。
尽管该技术使用的是气体，真空室中仍然需要很高的温度。 在ALD过程中，气相前驱体通过非重叠式的脉冲进行传递，且脉冲具有自限制性。
这种工艺拥有独特的化学性设计，每个脉冲只粘附一层，并且对光学件表面的几何形状没有特殊要求。 因此这种工艺使得可以高度的对镀层厚度和设计进行控制，但是会降低沉积的速率。
镀膜工艺
不同的镀膜沉积技术，具有各自的优缺点。光学可以采用不同的镀膜沉积技术为服务。
在很小的硅衬底上，出现了薄膜颜色的变化，有时很严重（多种颜色），有时两种颜色，有颜色的梯度，什么原因啊？
颜色变化是由于薄膜厚度不均匀导致不同程度的光干涉引起的。这种不均匀是purge不充分造成的，或者是precursor通多了。应该考虑一下硅片清洗的干净不干净。机器没有改动的话程序和剂量都是固定的。每次都是在相同的地方出现厚度的差异，感觉像是有一个通多了啊，tdeah这种源你们都是怎么设置的啊，比如温度，pulse和purge时间。都是根据系统得计算的，没有系统图和参数，明显已经出了可估测的范文。
ALD的一大验收指标就是膜厚均一性（5英寸的Si上）。
首先膜厚大概有多少，再决定用什么仪器去测量膜厚（多点测量）。
ALD做的其它薄膜，也出现了局部的不均匀现象比如只有半环状，或者一部分区域有薄膜的现象。
现代微处理器内的晶体管非常微小，晶体管中的一些关键薄膜层甚至只有几个原子的厚度，光是英文句点的大小就够容纳一百万个晶体管还绰绰有余。ALD 是使这些极细微结构越来越普遍的一种技术。
ALD 工艺直接在芯片表面堆积材料，一次沉积单层薄膜几分之一的厚度，以尽可能生成最薄、最均匀的薄膜。工艺的自限特性以及共形沉积的相关能力，是其成为微缩与 3D 技术推动因素的基础。自限式表面反应让原子级沉积控制成为可能：薄膜厚度仅取决于执行的反应周期数。表面控制会使薄膜保持极佳的共形性和均匀厚度，这两点是新兴 3D 器件设计的必备特性。
ar玻璃
1）可见光透过率最高峰值99%可见光平均透过率超过95%，
2） 平均反射率低于4%，最低值小于0.5%
3）色彩更艳丽、对比更强使图像色彩对比更强烈，景物更清晰。
4）抗紫外线，有效保护眼睛紫外线光谱区透过率大幅降低，可有效阻绝紫外线对眼睛之伤害
5） 耐高温AR玻璃耐温>500度(一般压克力只能耐温80度)
6）防刮耐磨性最佳AR玻璃膜层硬度与玻璃相当,大于7H，（一般PC板硬度约为2H至3H）。
7）可耐各种清洁剂清洗耐酸、碱清洗剂之擦拭，膜层不受损坏。
8）抗冲击性强3mm厚度玻璃的冲击性能相当于6mm压克力。
9）保持视角一般压克力在安装后，视角会变小；而AR玻璃装上后，视角不会变小。
10）外观AR玻璃表面平整度远远优于镀膜压克力，并且尺寸越大，相差越明显。
11）AR玻璃冷热变形几乎可以省略不计，适用于各类环境；同时，AR玻璃具有琉璃感，外观更漂亮。
比超白透光率还高的ar玻璃
普通的白玻透光率一般在82-83%左右。
超白玻璃透光率一般在89-91%，个别厂家生产的超白玻璃透过率甚至可以达到92%。
AR玻璃的透不率达到了95%，甚至有的AR玻璃可见光透过率最高峰值达到了99%。